氣相沉積爐設(shè)備特點是什么　　氣相沉積爐適用于化學(xué)氣相沉積法制備碳-碳復(fù)合材料，也可用于以碳?xì)錃怏w（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理，或以三氯甲硅烷（MTS）為氣源的材材料料表面抗氧化涂層、基體改性等。　　裝料方式有上裝料、底裝料、臥式三種裝料方式。該氣相沉積爐設(shè)備特點如下：　　1.多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；　　2.采用先進(jìn)的控制技術(shù)，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動范圍小；　　3.氣相沉積爐設(shè)備自動化高，關(guān)鍵執(zhí)行電氣件采用進(jìn)口；操作直觀、簡便，觸摸屏經(jīng)過開發(fā)，可動態(tài)顯示爐子運行狀況并具有自我診斷功能，程序段可直接輸入。　　4.采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強。

　　真空燒結(jié)爐的應(yīng)用有哪些　　真空燒結(jié)爐是一種高溫加熱設(shè)備，主要用于材料的燒結(jié)和熱處理。下面是真空燒結(jié)爐的常見應(yīng)用：　　1、金屬材料的燒結(jié)和制備：真空燒結(jié)爐可以用于金屬粉末的燒結(jié)和制備，如鎢、鉬、鐵、銅、鋁等金屬材料的制備。　　2、陶瓷材料的燒結(jié)和制備：真空燒結(jié)爐可以用于陶瓷材料的燒結(jié)和制備，如氧化鋁、氧化鋯、碳化硅等陶瓷材料的制備。　　3、復(fù)合材料的制備：真空燒結(jié)爐可以用于復(fù)合材料的制備，如金屬、陶瓷、復(fù)合材料等的制備。　　4、電子材料的制備：真空燒結(jié)爐可以用于電子材料的制備，如氧化鐵、鐵磁體材料等電子材料的制備。　　5、高溫材料的制備和熱處理：真空燒結(jié)爐可以用于高溫材料的制備和熱處理，如高溫合金材料、耐火材料等的制備和熱處理。　　6、粉末冶金材料的制備：真空燒結(jié)爐可以用于粉末冶金材料的制備，如鎢鉬合金、鈦合金等粉末冶金材料的制備。　　總之，真空燒結(jié)爐在金屬材料、陶瓷材料、電子材料、高溫材料等領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用。