氣相沉積爐的特點是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發生化學反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無機材料的方法。這種技術開始是作為涂層的手段而開發的，但目前，不只應用于耐熱物質的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個頗具特征的技術領域。 　　設備特點在于：(1)在低溫下合成高熔點物質;(2)析出物質的形態在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點物質，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿足超大型工件化學氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過程中產生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進行有效處理。

　　氣相沉積爐設備特點是什么　　氣相沉積爐適用于化學氣相沉積法制備碳-碳復合材料，也可用于以碳氫氣體（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理，或以三氯甲硅烷（MTS）為氣源的材材料料表面抗氧化涂層、基體改性等?！　⊙b料方式有上裝料、底裝料、臥式三種裝料方式。該氣相沉積爐設備特點如下：　　1.多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；　　2.采用先進的控制技術，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內沉積氣流穩定，壓力波動范圍??；　　3.氣相沉積爐設備自動化高，關鍵執行電氣件采用進口；操作直觀、簡便，觸摸屏經過開發，可動態顯示爐子運行狀況并具有自我診斷功能，程序段可直接輸入?！　?.采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強。